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第274节(3 / 3)

的发展,目前可以分为四个阶段,ktfr光刻胶、g线/i线光刻胶、krf光刻胶以及arf光刻胶。

arf光刻胶是世界最新的光刻胶技术,它继承了krf光刻胶的基础,也属于化学放大光刻胶。

半导体工艺开发联ic正式将arf光刻胶用作两千年下一代半导体013μ工艺的抗蚀剂。

只是相对于世界前沿的光刻胶技术,华夏的光刻胶发展简直称得上可怜。

华夏光刻胶的研究始于六七十年代,六七年的时候,华夏kpr型负性光刻胶就已经投产。

七零年,103b型、106型两种负胶投产,环化橡胶系负胶bn-302、bn-303也相继开发成功。

当时华夏的技术虽然比不上美国,但与日本研究时间相同,技术水平也相差无几。

只是之后因为种种原因,差距越来越大。

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